Intrinsic electron traps in atomic-layer deposited HfO2 insulators

F. Cerbu, O. Madia, D. V. Andreev, S. Fadida, M. Eizenberg, L. Breuil, J. G. Lisoni, J. A. Kittl, J. Strand, A. L. Shluger, V. V. Afanas’ev, M. Houssa and A. Stesmans, Appl. Phys. Lett. 108, 222901 (2016).